Cén fáth a bhfuil Pouch Cealla at?

Is iomaí fáth a n-atraíonn cadhnraí ian litiam cineál pouch. Bunaithe ar thaithí turgnamhach T & F, is féidir cúiseanna an at a chatagóiriú i dtrí chineál: ar dtús, méadú ar thiús de bharr leathnú leatháin leictreoid ceallraí le linn rothaíochta; sa dara háit, at mar thoradh ar ghiniúint gáis mar thoradh ar dhianscaoileadh ocsaídiúcháin an leictrilít; agus ar an tríú dul síos, swelling de bharr lochtanna déantúsaíochta, mar iontráil taise de bharr droch-shéalaithe nó damáiste ag coirnéil na gcealla.

Athraíonn na fachtóirí ceannasacha a chuireann athruithe ar thiús ceallraí chun cinn thar cheimiceáin cheallraí éagsúla. Mar shampla, i gcadhnraí a úsáideann anóidí titanate litiam (LTO), is é giniúint gáis an phríomhchúis leis an at; i gcodarsnacht leis sin, i gcás cadhnraí le anóidí graifíte, cuireann an dá leathnú leatháin leictreoid agus giniúint gáis le swelling.

Plé ar Fhachtóirí agus Meicníochtaí a Dhéanann Leathnú Anóid Graifíte

Tá an méadú ar thiús cille le linn cadhnraí ian litiam a mhuirearú curtha i leith go príomha le leathnú an anóid; níl ráta leathnaithe an chatóid ach 2-4%. Is gnách go mbíonn anóidí comhdhéanta de ghraifít, de ceanglóra, agus de charbón seoltaí, agus léiríonn an t-ábhar graifíte féin ráta leathnaithe de thart ar 10%. I measc na bpríomhfhachtóirí a mbíonn tionchar acu ar ráta leathnaithe anóidí graifíte tá foirmiú scannáin SEI (Soladach Leictrilít Idirphase), an stát muirear (SOC), paraiméadair phróisis, agus athróga eile.

(1) Foirmiú Scannán SEI
Le linn an timthriall urscaoilte tosaigh de cheallraí ian litiam, tarlaíonn imoibriú laghdaithe idir an leictrilít agus na cáithníní graifíte ag an gcomhéadan leachtach soladach, rud a chruthaíonn ciseal pasivation (an scannán SEI) thar an ábhar leictreoid. Mar thoradh ar fhoirmiú an scannáin SEI tá méadú suntasach ar thiús anóid, rud a chuireann le méadú foriomlán thart ar 4% ar thiús cille. Le linn rothaíochta fadtéarmacha, bíonn tionchar ag struchtúr fisiceach agus achar dromchla sonrach na graifíte ar phróiseas dinimiciúil a bhaineann le díscaoileadh an SEI atá ann cheana agus foirmiú SEI nua; mar shampla, taispeánann graifít flake ráta méadaithe níos airde ná graifít sféarúil.

(2) Stát Muirear (SOC)
Le linn an phróisis rothaíochta, taispeánann leathnú toirte an anóid graifíte caidreamh feidhmiúil tréimhsiúil láidir le SOC na cille. Go sonrach, leathnaíonn an toirt de réir a chéile de réir mar a intercalate iain litiam isteach sa graifít (ag méadú SOC na cille); os a choinne sin, nuair a dhianaíonn hiain litiam-ón anóid graifíte, laghdaítear SOC na cille, agus laghdaítear toirt anóid na graifíte dá réir.

(3) Paraiméadair Próisis
Maidir le paraiméadair phróisis, bíonn tionchar suntasach ag dlús dhlúthú ar anóid graifíte. Le linn fuarbhrú an bhileog leictreoid, forbraíonn strus comhbhrúiteach suntasach laistigh den chiseal sciath anóid graifíte; is deacair an strus seo a mhaolú go hiomlán le linn céimeanna ina dhiaidh sin mar bhácáil ar theocht ard. Le linn rothaíochta luchtaithe, bíonn an strus laistigh den bhratú mar thoradh ar chomh-iarmhairtí idirchalaithe/dí-ghalaithe ian litiam agus at spreagtha leictrilít an ceanglóra a scaoileadh saor, rud a fhágann go dtiocfaidh méadú ar an leathnú. Ina theannta sin, is é an dlús dhlúthaithe a chinneann an toirt folamh laistigh den sciath anóid. Is féidir le líon mór folamh freastal go héifeachtach ar leathnú an bhileog leictreoid.

Os a choinne sin, má tá an méid neamhní beag, níl dóthain spáis ann chun an leathnú a ionsú; dá bhrí sin, cuirtear iachall ar an leathnú amach, rud a léiríonn mar mhéadú ar mhéid iomlán an bhileog anóid.

(4) Fachtóirí Eile
I measc na bhfachtóirí eile a mbíonn tionchar acu ar leathnú anóid tá neart greamaitheachta an ceanglóra (go háirithe an greamaitheacht idir-aghaidhe idir an ceanglóra, na cáithníní graifíte, an charbón seoltaí, agus an bailitheoir reatha), rátaí muirir, iompar swelling an ceanglóra sa leictrilít, cruth agus dlús pacála na gcáithníní graifíte, agus méaduithe ar an toirt leictreoid mar thoradh ar dhíghrádú an ceanglóra le linn rothaíochta.

Tá Acey New Energy speisialaithe i dtaighde agus i ndéantúsaíocht trealaimh ardleibhéil do chadhnraí ian litiam. Is féidir linn-réiteach aon stad a chur ar fáil don scála saotharlainnelíne táirgeachta ceallraíle haghaidh ceallraí sorcóireach, ceall mona, ceall pouch

Cúis mhór eile le haghaidh at is ea giniúint gáis laistigh den cheallraí.

Bíonn leibhéil éagsúla giniúna gáis agus at i gcadhnraí le linn rothaíochta ag teocht an tseomra nó ag teochtaí arda, chomh maith le linn stórála ar ardteocht.

Le linn an timthriall urscaoilte lucht tosaigh-, foirmíonn scannán Soladach Idirphas Leictrilít (SEI) ar dhromchla an leictreoid. Tá foirmiú ciseal SEI (Soladach Leictrilít Idirphase) ar an anóid go príomha mar thoradh ar dhianscaoileadh laghdaitheach CE (Carbónáit Eitile); tá táirgeadh méideanna suntasacha CO agus C2H4 ag gabháil le giniúint litiam ailcile agus Li2CO3. Cuireann tuaslagóirí ar nós DMC (Carbónáit Dimethyl) agus EMC (Carbónáit Mheitileitile) le foirmiú scannán freisin, ag táirgeadh RLiCO3 agus ROLi taobh le gáis cosúil le CH4, C2H6, C3H8, agus CO. I leictrilítí bunaithe ar PC (Carbónáit Próipiléine){-, tá giniúint gáis réasúnta níos airde, go príomha mar gheall ar tháirgeadh gáis C3H8 a laghdú. Maidir le cealla pouch LiFePO4, tá an t-at gáis is déine tar éis don timthriall muirir tosaigh 0.1C a bheith críochnaithe.

Is léir go bhfuil giniúint méideanna suntasacha gáis ag gabháil le foirmiú SEI dosheachanta. Déanann láithreacht eisíontais H2O na bannaí P{-F a dhíchobhsú i LiPF6, rud a fhágann go gcruthaítear HF; díchobhsaíonn sé seo an córas ceallraí agus gineann sé gás. Ídíonn H2O iomarcach iain Li+, ag táirgeadh LiOH, LiO2, agus H2, a mbíonn éabhlóid gháis mar thoradh air freisin. Tarlaíonn giniúint gáis freisin le linn timthriall stórála agus muirear fada-scaoileadh; i gcadhnraí ian litiam séalaithe, bíonn carnadh suntasach gáis ina chúis le swelling, rud a chuireann isteach ar fheidhmíocht ceallraí agus ag giorrú a shaol seirbhíse. Is iad seo a leanas na príomhchúiseanna le gás a ghiniúint le linn stórála:

(1) Tá foirmiú HF mar thoradh ar H2O atá i láthair sa chóras ceallraí, rud a dhéanann damáiste don chiseal SEI. Féadfaidh ocsaigin (O2) sa chóras an leictrilít a ocsaídiú, rud a fhágann go ngintear suimeanna móra CO2;
(2) Má tá an ciseal SEI a foirmíodh le linn gníomhachtú tosaigh (foirmiú) éagobhsaí, féadfaidh sé díghrádú le linn stórála; scaoileann deisiú na sraithe SEI ina dhiaidh sin gáis atá comhdhéanta go príomha de hidreacarbóin. Le linn-luchtaithe fadtéarmach-rothaíochta scaoilte, féadfaidh athruithe ar struchtúr criostalach an ábhair chatóide agus dáileadh poitéinsil neamh-éide ar fud an dromchla leictreoid ardacmhainneacht logánta a chruthú. Laghdaíonn sé seo cobhsaíocht an leictrilít ag an gcomhéadan leictreoid; Méadaíonn an ramhrú leanúnach ar an scannán dromchla an fhriotaíocht idir-éadan, rud a ardaíonn an cumas imoibrithe tuilleadh. Spreagann sé seo dianscaoileadh leictrilít agus giniúint gáis, agus féadfaidh an t-ábhar catóide féin gás a scaoileadh freisin.

Taispeánann cadhnraí leibhéil éagsúla at ag brath ar a gcórais cheimiceacha. I gcadhnraí a úsáideann anóidí graifíte, is iad na príomhchúiseanna a bhaineann le giniúint gáis agus swelling ná-mar a luadh cheana-foirmiú ciseal SEI, cion taise iomarcach laistigh den chill, aimhrialtachtaí sa phróiseas foirmithe, agus droch-shéalaithe. I gcodarsnacht leis sin, laistigh den chóras anóid titanate litiam (LTO), cuireann an tionscal giniúint gáis i gcadhnraí Li4Ti5O12 go ginearálta i leith claonadh dúchasach an ábhair chun taise a ionsú, cé nach bhfuil aon fhianaise chinntitheach ann chun an hipitéis seo a dhearbhú.

1. Séalaithe lag:Tá laghdú suntasach tagtha ar mhinicíocht na gcealla ata de bharr lochtanna séalaithe. Is féidir go dtarlóidh lochtanna ar aon taobh séalaithe, agus is iad na rónta barrshéalaithe agus dígassing na réimsí fadhbanna is coitianta; is iondúil go mbíonn réimse na gcluaisíní i gceist le saincheisteanna séalaithe barr, agus is minic a bhíonn delamination i gceist le saincheisteanna degassing. Ligeann droch-shéalaithe le taise an atmaisféir dul isteach sa chill, rud a chuireann faoi deara dianscaoileadh leictrilít agus giniúint gáis.

2. Damáiste dromchla pouch:Le linn an tsreabhadh líne táirgeachta, féadfaidh an pouch damáiste de thaisme nó spreagtha ag an duine (cosúil le bioráin), rud a ligeann don taise dul isteach sa taobh istigh cille.

3. Damáiste cúinne:Mar gheall ar dhífhoirmiú sonrach an chiseal alúmanaim ag na coirnéil fillte, is féidir le gluaiseacht an mhála gáis casadh ar an gcúinne, dochar a dhéanamh don alúmanam (tá cealla níos mó le málaí gáis níos mó níos mó seans maith dó seo) agus cur isteach ar an mbacainn taise. Má chuirtear téip chréip nó greamachán te-leáphointe ar na coirnéil, is féidir an riosca seo a mhaolú. Ina theannta sin, tá cosc ​​ar láimhseáil cealla ag an mála gáis tar éis séalaithe barr; ní mór cúram ar leith a ghlacadh le linn oibríochta chun na cealla a chosc ó luascadh agus iad ar racaí aosaithe.

4. Cion taise inmheánach iomarcach:Má sháraíonn na leibhéil taise na teorainneacha, díghrádaíonn an leictrilít, rud a fhágann giniúint gáis tar éis foirmiú nó dígassing. I measc na bpríomhchúiseanna le taise inmheánach iomarcach tá: cion ard taise sa leictrilít, cion ard taise sa chill lom tar éis bácála, agus taise iomarcach sa seomra tirim. Má tá amhras ann gurb é an iomarca taise is cúis leis an at, is féidir seiceáil inrianaitheachta próisis a dhéanamh.

5. Aimhrialtachtaí próiseas foirmithe:Féadfaidh at cille a bheith mar thoradh ar nósanna imeachta foirmithe míchearta.

6. Ciseal SEI éagobhsaí:D’fhéadfadh at beag tarlú le linn na dtimthriallta luchtaithe de thástáil acmhainne. 7. Ró-mhuirear/Thar-urscaoileadh: Mar gheall ar mhífheidhmeanna próisis, trealaimh nó an chláir chiorcaid chosanta (PCB), téann an chill cheallra faoi rómhuirear nó ró-urscaoileadh, rud a fhágann at tromchúiseach (giniúint gáis).

8. Ciorcad Gearr:Tá ciorcad gearr mar thoradh ar earráidí oibriúcháin a dhéanann teagmháil idir na cluaisíní cille beo; swells an chill, titeann an voltas go tapa, agus na cluaisíní a bheith charred dubh.

9. Gearrchiorcad Inmheánach:Cruthaíonn ciorcad gearr idir an anóid agus an chatóid taobh istigh den chill urscaoileadh tapa agus giniúint teasa, agus at dian ag gabháil leis. I measc na gcúiseanna tá lochtanna dearaidh; crapadh deighilteoir, tlú, nó damáiste; mí-ailíniú dé-chill; burrs pollta an deighilteoir; brú daingneáin iomarcach; nó ró-chomhbhrúite ag an meaisín séalaithe teasa. Mar shampla, tá leithead neamhleor mar aon le comhbhrú iomarcach ar an gcorp cille ag an meaisín séalaithe teasa tar éis a bheith ina chúis le giorrú agus at anóid roimhe seo.

10. Creimeadh:Caitheann creimeadh na cille an ciseal alúmanaim, ag scriosadh a fheidhm bhacainn taise agus as a dtagann swelling.

11. Díghású Neamhghnácha Fholúis:Bíonn leibhéil fholús míchuí nó díghású neamhiomlán mar thoradh ar shaincheisteanna córais nó trealaimh. Mar shampla, má tá an crios radaíochta teasa le linn séalaithe i bhfolús ró-mhór, d'fhéadfadh go dteipeann ar an uirlis pollta degassing an pouch a bhualadh go héifeachtach, rud a fhágann go mbeidh eastóscadh gáis neamhiomlán.

Chun giniúint gáis neamhghnácha a shochtadh ní mór aghaidh a thabhairt ar phróisis deartha agus déantúsaíochta ábhair araon.

Ar dtús,ní mór córais ábhair agus leictrilít a bharrfheabhsú lena chinntiú go gcruthófar scannán dlúth, cobhsaí Idirphasáil Leictrilít Soladach (SEI), chun cobhsaíocht ábhar catóide a fheabhsú, agus chun giniúint gáis neamhghnácha a chosc.

Maidir le cóireáil leictrilít, is minic a úsáidtear méideanna beaga breiseán foirmithe scannáin chun an scannán SEI a dhéanamh níos comhionann agus níos dlúithe. Laghdaíonn sé seo giniúint gáis de bharr díorma scannáin SEI agus athghiniúint le linn úsáid ceallraí, rud a mhaolaíonn at; tá a leithéid de mhodhanna taifeadta i dtaighde agus curtha i bhfeidhm go praiticiúil.

Léiríonn taighde go bhfuil na comhpháirteanna scannáin SEI déanta ag EC (carbónáit eitiléine) agus VC (carbónáit viniléin) comhdhéanta de charbónáití ailcile litiam líneacha. Ag teochtaí arda, tá na carbónáití ailcile litiam atá ceangailte leis an charbón lithiated (LiC) éagobhsaí agus dianscaoileann siad chun gáis a ghiniúint (cosúil le CO2), rud a fhágann go bhfuil ceallraí ag at. Tá an scannán SEI déanta ag PS comhdhéanta de sulfonáit ailcile litiam; Cé go bhfuil lochtanna sa scannán, tá struchtúr déthoiseach áirithe aige agus fanann sé sách cobhsaí ar dhromchla an LiC fiú ag teochtaí arda. Nuair a úsáidtear PS agus VC i dteannta a chéile, cruthaíonn PS struchtúr déthoiseach lochtach ar dhromchla anóid ag voltais níos ísle; De réir mar a ardaíonn an voltas, cruthaíonn VC carbónáit ailcile litiam struchtúrtha líneach a líonann na lochtanna sa struchtúr déthoiseach, rud a fhágann go bhfuil scannán SEI cobhsaí líonraithe ar an LiC. Cuireann an cineál struchtúr scannáin SEI seo go mór le cobhsaíocht agus cuireann sé faoi chois go héifeachtach giniúint gáis de bharr dianscaoileadh scannáin.

Ina theannta sin,idirghníomhaíochtaí idir an t-ábhar catóide ocsaíd cóbalt litiam agus an leictrilít mar thoradh ar dhianscaoileadh táirgí a catalaíonn an miondealú tuaslagóirí leictrilít. Dá bhrí sin, ní hamháin go bhfeabhsaíonn sciath dromchla ar an ábhar catóide cobhsaíocht struchtúrach ach laghdaítear an teagmháil idir an chatóid agus an leictrilít, rud a laghdóidh giniúint gáis atá á thiomáint ag gníomhaíocht dhianscaoileadh catalaíoch an chatóid. Dá bhrí sin, léiríonn foirmiú ciseal sciath cobhsaí, slán ar dhromchla na gcáithníní ábhar catóide treo mór d'fhorbairt reatha.

Acey New Energyspeisialtóireacht i réitigh aon-stad a sholáthar do línte cóimeála leath-uathoibríoch/uathoibríocha de phacáistí ceallraí litiam a úsáidtear i ESS, UAV, E-Rothar, E-Scútar, Power Tools, Two/Three Wheelers, etc. Más rud é go bhfuil tú nua i dtionscal táirgthe ceallraí litiam nó ceallraí litiam,líne cóimeála pacáiste ceallraí, is féidir linn tacaíocht theicniúil agus treoir ghairmiúil a sholáthar duit, bíodh leisce ort teagmháil a dhéanamh linn!

Déan teagmháil anois